I-HE wurde speziell für die Anwendung „PowderBlasting“ (mikroabrasiver Materialabtrag durch Sandstrahlung) und für die Bearbeitung technischer Gläser und Keramiken entwickelt. Die fotolithografische Strahlfolie I-HE wird mit einem Trockenresist-Laminator auf das Substrat heiß auflaminiert und die Belichtung erfolgt sobald das Material auf Zimmertemperatur abgekühlt ist. Im Gegensatz zu anderen Photoresist Materialien und Strahlfolientypen wird I-HE nicht mit alkalischen Lösungen entwickelt, sondern mit Wasser. Chemische Zusätze werden weder zur Entwicklung, noch zur Entschichtung (Stripping) benötigt.

Anwendungsgebiete von I-HE:

• Mikroperforation von Dünnglas (Wafer) und technischen Keramiken
• MEMS packaging
• Lens packaging
• Produktion von Lab on Chip - Systemen
• Gravur von Identifikationsnummern und Firmenzeichen / Logos
• Gezielte Oberflächenstrukturierung von Metall.

I-HE ist verfügbar in Rollen in:

• 75µ
• 100µ